仪器名称 |
仪器型号 |
所在单位 |
详细 |
预约 |
3D立体显微镜 |
LEXT OLS4000 |
半导体所 |
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ICP宝石刻蚀机 |
HiEtch-Lx2000 |
半导体所 |
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III-V族ICP刻蚀机 |
System 100 |
半导体所 |
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LPCVD设备 |
LP4612-2F |
半导体所 |
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PECVD |
BenchMark800 |
半导体所 |
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PECVD |
STS Multiplex CVD |
半导体所 |
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PT ICP刻蚀系统 |
VersalineTM LL-DSE |
半导体所 |
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Si ICP刻蚀机 |
601E |
半导体所 |
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半导体参数仪 |
B1500 |
半导体所 |
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磁控溅射系统 |
DISCOVERY635 |
半导体所 |
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倒装焊 |
FW1 |
半导体所 |
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电子束曝光机 |
150-Turnkey |
半导体所 |
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电子束蒸发台 |
EB700-I |
半导体所 |
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电子束蒸发台 |
Denton Explorer14 |
半导体所 |
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电子束蒸发台 |
Innotec C26VE25A |
半导体所 |
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分光光度计 |
Cray 5E |
半导体所 |
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高能离子注入机 |
LC-4 |
半导体所 |
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高温扩散炉 |
L4514II2F |
半导体所 |
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光刻机 |
MJB3-1 SUSS MJB3 |
半导体所 |
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光刻系统 |
EVG EVG620 |
半导体所 |
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光刻系统 |
SUSS MA6 |
半导体所 |
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合金退火炉 |
L4514II2F |
半导体所 |
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激光直写系统 |
ATD1000 |
半导体所 |
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键合系统 |
SB6 |
半导体所 |
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聚焦离子束 |
FB-2100 |
半导体所 |
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棱镜耦合仪 |
Model2010 |
半导体所 |
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离子束溅射台 |
Optofab3000 |
半导体所 |
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离子注入机 |
Varian 350 |
半导体所 |
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纳米光刻系统 |
MA6 |
半导体所 |
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扫描电子显微镜 |
NanoSEM650 |
半导体所 |
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砂轮划片机 |
ZSH506 |
半导体所 |
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台阶仪 |
KLA-Tencor P-6 |
半导体所 |
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太阳能电池IV测试系统 |
94041A |
半导体所 |
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椭偏仪 |
M-2000DI |
半导体所 |
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氧化硅ICP刻蚀机 |
Multiplex AOE |
半导体所 |
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原子力显微镜 |
DimensionEdge |
半导体所 |
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匀胶机 |
SUSS Delta80 |
半导体所 |
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