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半导体所仪器

仪器名称

仪器型号

所在单位

详细

预约

3D立体显微镜

LEXT OLS4000

半导体所

 

 

ICP宝石刻蚀机

HiEtch-Lx2000

半导体所

 

 

III-VICP刻蚀机

System 100

半导体所

 

 

LPCVD设备

LP4612-2F

半导体所

 

 

PECVD

BenchMark800

半导体所

 

 

PECVD

STS Multiplex CVD

半导体所

 

 

PT ICP刻蚀系统

VersalineTM LL-DSE

半导体所

 

 

Si ICP刻蚀机

601E

半导体所

 

 

半导体参数仪

B1500

半导体所

 

 

磁控溅射系统

DISCOVERY635

半导体所

 

 

倒装焊

FW1

半导体所

 

 

电子束曝光机

150-Turnkey

半导体所

 

 

电子束蒸发台

EB700-I

半导体所

 

 

电子束蒸发台

Denton Explorer14

半导体所

 

 

电子束蒸发台

Innotec C26VE25A

半导体所

 

 

分光光度计

Cray 5E

半导体所

 

 

高能离子注入机

LC-4

半导体所

 

 

高温扩散炉

L4514II2F

半导体所

 

 

光刻机

MJB3-1 SUSS MJB3

半导体所

 

 

光刻系统

EVG EVG620

半导体所

 

 

光刻系统

SUSS MA6

半导体所

 

 

合金退火炉

L4514II2F

半导体所

 

 

激光直写系统

ATD1000

半导体所

 

 

键合系统

SB6

半导体所

 

 

聚焦离子束

FB-2100

半导体所

 

 

棱镜耦合仪

Model2010

半导体所

 

 

离子束溅射台

Optofab3000

半导体所

 

 

离子注入机

Varian 350

半导体所

 

 

纳米光刻系统

MA6

半导体所

 

 

扫描电子显微镜

NanoSEM650

半导体所

 

 

砂轮划片机

ZSH506

半导体所

 

 

台阶仪

KLA-Tencor P-6

半导体所

 

 

太阳能电池IV测试系统

94041A

半导体所

 

 

椭偏仪

M-2000DI

半导体所

 

 

氧化硅ICP刻蚀机

Multiplex AOE

半导体所

 

 

原子力显微镜

DimensionEdge

半导体所

 

 

匀胶机

SUSS Delta80

半导体所

 

 

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