场发射透射电子显微镜
型号：Tecnai G2 F20 U-TWIN
一.设备外型：
二.生产厂家：美国FEI公司
三.主要规格及技术指标：
1. 最高加速电压200 kV
2. Schottky热场发射电子枪
3. 晶格分辨率 0.10 nm，点分辨率 0.19 nm
4. 信息分辨率 0.12 nm，STEM分辨率 0.14 nm
5. 最小束斑尺寸≤0.2nm
6. 最小能量分散 200kv下0.7eV或更低
7. 放大倍数 25×-1000k×，最大倾转角 ± 24°
8. X射线能谱分辨率 136eV 分辨范围 Be-U
四.主要附件：
1.美国Gatan公司的GIF Tridiem能量过滤成像系统及2K×2K CCD相机；
2.美国EDAX公司X射线能谱仪；
3.数字化扫描附件及高角环形暗场探头。
五.主要功能及应用范围：
观察各种材料的微观结构并对样品进行纳米尺度的微区分析，如：形貌观察，高分辨电子显微学研究（HRTEM），电子衍射（ED），会聚束电子衍射（CBED），衍射衬度成像（BF，DF），电子能量损失谱分析（EELS）及能量过滤成像（EFTEM），X射线能谱分析（EDS），原子序数Z-衬度成像（HAADF - STEM）等。
六.仪器特色：
电子束亮度高，束斑尺寸小，相干性好，分辨率高，综合分析能力强。
