型号：Nova 200 NanoLab
一. 设备外型：
二. 技术参数：
1.SEM分辨率：1.1nm@15kV， 2.5nm@1kV
2.FIB分辨率：7nm (可达到5nm)
3.加速电压：SEM 200V-30kV, FIB 5-30kV
4.探测器：E-T二次电子探测器，TLD二次电子/背散射电子探测器，CDEM离子探测器，5.样品室红外CCD；可选STEM、固体背散射探测器等
6.气体注入系统（GIS）：Pt沉积气体、W沉积气体、C沉积气体，金属增强蚀刻气体、氧化物增强蚀刻气体等。
三. 主要特点
1.FEI SEM/FIB双束系统，技术成熟，同一操作界面，SPI（FIB加工，SEM同时观察）技术
2.纳米加工、2D/3D纳米表征、纳米分析的理想工具
3.完善的气体注入（GIS）系统
4.丰富的分析功能，如3维重构、STEM分析、能谱分析、EBSP分析等
5.全数字化控制，FIB全自动操作
四. 仪器介绍
Nova 200 NanoLab是FEI于2003年8月正式发布的SEM/FIB双束工作站。
FEI公司在几十年FIB和SEM经验的基础上，结合FEI最新的技术，为材料科学、特别是纳米技术设计了Nova NanoLab。用户可在一套系统上完成：
1.纳米加工
2.纳米原型设计
3.2D/3D纳米表征
4.纳米分析
使这台设备成为联系SEM（进行纳米表征和微米分析）和TEM（纳米和原子级别分析和表征）的桥梁。
