型号：S-4800 型
一.设备外型：
二.主要技术参数：
1. 二次电子分辨率:1.0nm(15 kV); 2.0 nm(1 kV)
2. 背散射电子分辨率:3.0 nm(15 kV)
3. 电子枪:冷场发射电子源
4. 加速电压:0.5~30 kV（0.1 kV/步，可变）
5. 放大倍率:×30 ~ ×800,000。
6. X射线能谱仪的元素分析范围为Be4~U92。
三.主要特点：
S-4800型高分辨场发射扫描电镜（简称S-4800）为日本日立公司于2002年推出的产品。该电镜的电子发射源为冷场，物镜为半浸没式。在高加速电压（15kV）下，S-4800的二次电子图像分辨率为1 nm，这是目前半浸没式冷场发射扫描电镜所能达到的最高水平。该电镜在低加速电压（1kV）下的二次电子图像分辨率为2nm，这有利于观察绝缘或导电性差的样品。S-4800的主要附件为X射线能谱仪。利用S-4800和X射线能谱仪可以在观察样品表面微观形貌的同时进行微区成分定性和定量以及元素分布分析。此次所购X射线能谱仪的元素分析范围为Be4~U92，从而可以分析轻元素。由于S-4800不能在低真空条件下工作，因此不适合直接观察含水和含油样品。
四应用领域：
1. 用于观察材料表面的微细形貌、断口及内部组织，并对材料表面微区成分进行定性和定量分析，主要用途如下：
2. 金属、陶瓷、混凝土、生物、高分子、矿物、纤维等无机或有机固体材料的断口、表面形貌、变形层等的观察；
3. 材料的相分布和夹杂物形态成分的鉴定；
4. 金属镀层厚度及各种固体材料膜层厚度的测定；
5. 纳米材料及其它无机或有机固体材料的粒度观察和分析；
6. 进行材料表面微区成分的定性和定量分析。
