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物理所电子束曝光系统

 

 

 

型号:Raith150

.主要技术指标:

1.   加速电压:0.2-30kV;

2.   SEM分辨率:2 nm;

3.   最小线宽:20 nm;

4.   拼接精度:30 nm;

5.        样品台:最大4英寸

 

. 主要功能:

采用电子束直写的方法制作纳米图形结构,用于各种微纳器件和纳米人工结构的制作。应用于微纳米材料加工领域。

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